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检索条件"作者=吴新杰"
840759 条 记 录,以下是1-10 订阅
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活化剂对自浸渗法制备SiCp/Al复合材料的影响
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金属热处理 2001年 第9期26卷 41-43页
作者: 王蕾 许伯藩 吴新杰 张细菊 武汉科技大学材料与冶金学院 湖北武汉430081
研究了以K2 TiF6为助渗剂 ,Mg及La2 O3 为活化剂 ,在大气条件下无压力自浸渗制备颗粒增强铝基复合材料的新方法。结果表明 ,加入活化剂阻止了复合材料中脆性相Al3Ti,Al4 C3 的产生 ;
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基于事件触发的非线性多智能体系统的固定时间分群一致性
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控制与决策 2023年 第5期38卷 1278-1285页
作者: 吴新杰 陈世明 华东交通大学电气与自动化工程学院 南昌330013
结合事件触发控制方法研究非线性多智能体系统的固定时间分群一致性问题.提出一种非线性分布式事件触发分群一致性控制协议,并给出状态信息触发控制器更新的条件.该控制协议不受入度平衡条件限制,且只需自身状态信息与邻居智能体进行通... 详细信息
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Al_2O_3-C耐火材料对超低碳钢的增碳作用
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耐火材料 2004年 第6期38卷 399-401,406页
作者: 阮国智 李楠 吴新杰 武汉科技大学高温陶瓷与耐火材料湖北省重点实验室 武汉430081
在空气中利用中频感应炉加热,研究了以Si 为抗氧化剂的Al2O3-C耐火材料对超低碳钢的增碳 作用。利用高频燃烧红外吸收法测定钢样中的碳含 量,并对用后耐火材料进行了SEM和EDS分析。研 究结果表明:钢熔化后,炭的直接溶解机制造成钢水 中... 详细信息
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两相流速度分布算法的研究
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仪器仪表学报 2004年 第5期25卷 608-610,623页
作者: 吴新杰 王师 王凤翔 辽宁大学物理系 沈阳110036 东北大学信息科学与工程学院 沈阳110006 沈阳工业大学电气工程学院 沈阳110023
提出一种基于小波变换、神经网络和空间滤波测量速度成像的方法。神经网络用来重构管道相关部分的图像。小波变换用于确定每个像素空间滤波信号的带宽 ,并由此得到速度和它的图像。实验结果表明这种速度成像测量方法是可靠的。
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基于独立成分分析和小波变换处理两相流信号
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辽宁工程技术大学学报(自然科学版) 2007年 第5期26卷 795-797页
作者: 吴新杰 许超 辽宁大学物理学院 辽宁沈阳110036
为克服噪声信号给速度测量带来的影响,提供了一种基于独立成分分析(ICA)和小波变换处理两相流信号的方法。首先介绍独立成分分析(ICA)的基本原理及其实现方法,并利用此方法对两相流信号进行处理;根据傅立叶变换确定信号的频谱;然后介绍... 详细信息
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基于最大信噪比测量两相流速度
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工程热物理学报 2009年 第12期30卷 2051-2054页
作者: 吴新杰 刘石 许超 辽宁大学物理学院 辽宁沈阳110036 华北电力大学能源与动力工程学院 北京102206
为了克服噪声对信号的影响,提出一种利用最大信噪比和相关法测量两相流速度的方法。基于最大信噪比的信号分离方法是一种盲源信号分离方法,该算法利用统计独立信号完全分离时信噪比最大作为分离准则,它具有非常低的计算复杂度。这里首... 详细信息
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基于线性神经网络测量固体速度的方法
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仪器仪表学报 2000年 第4期21卷 343-345页
作者: 吴新杰 王师 东北大学自动控制系 沈阳110003
本文提出了一种以线性神经网络为基础测量气、固两相流速度的新方法。首先通过对两个传感器之间的流动噪声输送过程进行分析 ,建立两个传感器信号之间的数学模型。并以此为基础通过线性神经网络测量流动噪声的渡越时间 ,进而测出流速。... 详细信息
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PCVD法在模具钢表面沉积Ti(CN)涂层的研究
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金属热处理 2003年 第8期28卷 7-9页
作者: 潘应君 吴新杰 李平生 张细菊 武汉科技大学材料与冶金学院 湖北武汉430081
应用PCVD技术 ,以金属有机物钛酸丙酯 (TPT)代替TiCl4作钛源 ,在H13模具钢表面沉积Ti(CN)涂层 ,研究了不同工艺参数对涂层组织和性能的影响。试验结果表明 ,采用适当的沉积温度、压力及氮气流量 ,可以在H13钢表面得到以Ti(CN)为主的致... 详细信息
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用PCVD法在1Cr18Ni9不锈钢表面沉积AlN薄膜的研究
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金属热处理 2004年 第12期29卷 20-22页
作者: 潘应君 陈淑花 张细菊 吴新杰 武汉科技大学材料与冶金学院 湖北武汉430081
采用等离子体化学气相沉积 (PCVD)技术 ,以AlCl3作铝源在 1Cr18Ni9不锈钢表面沉积AlN薄膜 ,探讨了不同沉积时间和温度对薄膜硬度的影响 ,并对AlN薄膜的耐蚀性进行了研究。试验结果表明 ,经 5 0 0~ 5 5 0℃沉积4h ,可以在不锈钢表面得... 详细信息
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高硅钢的PCVD制造工艺及其电磁性能
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钢铁研究学报 1997年 第4期9卷 42-45页
作者: 吴润 陈大凯 夏先平 吴新杰 武汉冶金科技大学
采用正交试验法对PCVD等离子体增强化学气相沉积渗硅的工艺进行了优化。在40%SinH2n+2+60%Ar(质量分数)渗硅源中,电工钢于480℃PCVD处理40min,其表面可形成厚20μm富硅层。再经1100℃扩散... 详细信息
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