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磁控溅射制备Ag/TiO_2复合薄膜的光催化降解性能

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清华大学学报（自然科学版） 2004年第5期44卷 589-592,608页

作者：侯亚奇庄大明张弓吴敏生清华大学机械工程系北京100084

为了提高TiO2薄膜的光催化效率,利用中频交流磁控溅射技术,采用Ti和Ag金属靶制备了Ag/TiO2复合薄膜。利用X射线光电子能谱、X射线衍射和扫描电子显微镜分析了复合薄膜的成分、结构和表面形貌,并研究了其光催化降解性能。结果发现:Ag在... 详细信息

为了提高TiO2薄膜的光催化效率,利用中频交流磁控溅射技术,采用Ti和Ag金属靶制备了Ag/TiO2复合薄膜。利用X射线光电子能谱、X射线衍射和扫描电子显微镜分析了复合薄膜的成分、结构和表面形貌,并研究了其光催化降解性能。结果发现:Ag在厚度较薄时以聚集颗粒形式存在;在Ag膜厚度为15nm时,Ag/TiO2复合薄膜与TiO2薄膜相比其光催化效率可提高2倍;Ag/TiO2复合薄膜对亚甲基蓝的光催化降解效率与复合薄膜的透射率均随Ag膜厚度增加逐渐下降,其原因是Ag膜厚度不断增加,最终完全覆盖TiO2薄膜表面,阻挡了TiO2薄膜与污染物的有效接触,Ag作为光生电子捕获剂的有利影响消失。

关键词： Ag/TiO2复合薄膜光催化降解中频交流磁控溅射亚甲基蓝 X射线衍射

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干摩擦条件下金刚石复合膜摩擦学性能

清华大学学报（自然科学版） 2002年第4期42卷 501-504页

作者：侯亚奇庄大明张弓刘家浚吴敏生清华大学机械工程系北京100084

在干摩擦条件下利用 SRV磨损试验机比较了在硬质合金基体上金刚石薄膜、石墨 /金刚石复合膜以及硬质合金 3种试样的摩擦学性能。利用扫描电子显微镜观察了试样和磨痕的表面形貌。利用表面形貌仪测试了磨损体积。研究了振动频率对试样的... 详细信息

在干摩擦条件下利用 SRV磨损试验机比较了在硬质合金基体上金刚石薄膜、石墨 /金刚石复合膜以及硬质合金 3种试样的摩擦学性能。利用扫描电子显微镜观察了试样和磨痕的表面形貌。利用表面形貌仪测试了磨损体积。研究了振动频率对试样的摩擦学性能影响。结果表明 ,在干摩擦条件下 ,金刚石薄膜与石墨 /金刚石复合膜的摩擦学性能差别不大 ,二者的磨损机理均为微断裂磨损。在干摩擦条件下 ,高频时金刚石薄膜的耐磨性是硬质合金耐磨性的 8～ 10倍。

关键词：金刚石薄膜石墨/金刚石复合膜摩擦学性能摩擦磨损

润滑条件下金刚石薄膜及石墨/金刚石复合薄膜的摩擦学性能

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摩擦学学报 2002年第1期22卷 1-5页

作者：侯亚奇庄大明张弓刘家浚吴敏生清华大学机械工程系北京100084

利用SRV摩擦磨损试验机对比考察了液体石蜡润滑时硬质合金基体上金刚石薄膜和石墨 /金刚石复合薄膜的摩擦学性能 ,采用扫描电子显微镜对试样和磨痕表面形貌进行了观察分析 ,并进而探讨了磨损机理 .结果表明 ,在润滑条件下 ,石墨 /金刚... 详细信息

利用SRV摩擦磨损试验机对比考察了液体石蜡润滑时硬质合金基体上金刚石薄膜和石墨 /金刚石复合薄膜的摩擦学性能 ,采用扫描电子显微镜对试样和磨痕表面形貌进行了观察分析 ,并进而探讨了磨损机理 .结果表明 ,在润滑条件下 ,石墨 /金刚石复合薄膜的摩擦系数和磨损体积损失均较金刚石薄膜的小 ,金刚石薄膜和石墨 /金刚石复合薄膜的主要磨损机理均为亚微断裂磨损。

关键词：金刚石薄膜石墨/金刚石复合薄膜摩擦学性能磨损机理润滑

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退火温度对TiO_2薄膜光学性能的影响

清华大学学报（自然科学版） 2003年第11期43卷 1441-1443页

作者：侯亚奇庄大明张弓赵明吴敏生清华大学机械工程系北京100084

为确定合适的TiO2薄膜退火工艺,研究了退火温度对采用中频交流反应磁控溅射技术制备的TiO2薄膜光学性能的影响。利用分光光度计测得石英玻璃基体TiO2薄膜试样的透射谱和反射谱,用包络线法和经验公式法计算出薄膜的光学常数。结果表明:T... 详细信息

为确定合适的TiO2薄膜退火工艺,研究了退火温度对采用中频交流反应磁控溅射技术制备的TiO2薄膜光学性能的影响。利用分光光度计测得石英玻璃基体TiO2薄膜试样的透射谱和反射谱,用包络线法和经验公式法计算出薄膜的光学常数。结果表明:TiO2薄膜的折射率随退火温度的上升而增加,低温退火时薄膜消光系数略有减小,500℃退火时TiO2薄膜具有最优的光学性能。

关键词：退火温度二氧化钛薄膜光学性能中频交流磁控溅射薄膜光学

反应溅射制备TiO_2∶MoO_3复合薄膜的光催化降解性能

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硅酸盐学报 2004年第6期32卷 694-699页

作者：侯亚奇庄大明张弓钱仲豪吴敏生清华大学机械工程系北京100084

利用中频交流磁控溅射技术反应溅射TiMo合金靶(Mo的摩尔分数为10%)制备了TiO2∶MoO3复合薄膜,用XPS,XRD和SEM分析了复合薄膜的成分、结构和表面形貌,并研究了其光催化降解性能。结果发现:反应溅射制备的复合薄膜中Ti,Mo均完全氧化,Mo的... 详细信息

利用中频交流磁控溅射技术反应溅射TiMo合金靶(Mo的摩尔分数为10%)制备了TiO2∶MoO3复合薄膜,用XPS,XRD和SEM分析了复合薄膜的成分、结构和表面形貌,并研究了其光催化降解性能。结果发现:反应溅射制备的复合薄膜中Ti,Mo均完全氧化,Mo的摩尔分数约为4%。TiO2∶MoO3复合薄膜由于存在MoO3相,其对亚甲基蓝和甲基橙的光催化效果相对较弱,同时其对亚甲基蓝有极强的吸附作用。薄膜越厚,其中的MoO3相含量越多,薄膜的吸附性能越强,光催化能力越弱。

关键词：三氧化钼复合薄膜中频交流磁控溅射光催化降解亚甲基蓝吸附

影响TiO_2薄膜光催化降解亚甲基蓝的因素

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催化学报 2004年第2期25卷 96-100页

作者：侯亚奇庄大明张弓方玲吴敏生清华大学机械工程系北京100084

用中频交流反应磁控溅射技术制备了具有良好光催化性能的TiO2 薄膜 ,考察了紫外光源、反应器和溶液浓度对亚甲基蓝溶液光催化降解特性的影响 .结果表明 ,紫外光源对TiO2 薄膜光催化降解性能有较大的影响 ;在计算光催化降解速率时应充分... 详细信息

用中频交流反应磁控溅射技术制备了具有良好光催化性能的TiO2 薄膜 ,考察了紫外光源、反应器和溶液浓度对亚甲基蓝溶液光催化降解特性的影响 .结果表明 ,紫外光源对TiO2 薄膜光催化降解性能有较大的影响 ;在计算光催化降解速率时应充分考虑光解和光氧化的影响 .低压汞灯TUV为光催化降解的较好选择 .动态反应系统可以有效避免光解 ,显著提高光催化反应速度 .TiO2 薄膜具有很好的光催化性能 ,且性能稳定 .

关键词：氧化钛薄膜光催化降解亚甲基蓝紫外光源 TiO2薄膜

EPC工程总承包项目中外联合体内部冲突及化解策略探讨

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EPC工程总承包项目中外联合体内部冲突及化解策略探讨

作者：侯亚奇东南大学

学位级别：硕士

现代大型工程项目的工艺趋向复杂,工程实施难度增高,为了符合项目投资经济性,对项目建设过程及建设成本控制变得越发严格,传统的设计-招标-施工管理模式属于分段式组织方式,已经无法对建设总工期及总投资进行有效控制。20世纪60年代末,... 详细信息

现代大型工程项目的工艺趋向复杂,工程实施难度增高,为了符合项目投资经济性,对项目建设过程及建设成本控制变得越发严格,传统的设计-招标-施工管理模式属于分段式组织方式,已经无法对建设总工期及总投资进行有效控制。20世纪60年代末,美国率先出现了EPC总承包项目,这种模式将设计、采购、施工统一发包给一个承包商,并由其统筹安排,以得到压缩工期、控制总造价的效果。随后,该模式在全世界各国进一步推广使用,并于20世纪90年代传入中国。EPC模式在中国,普遍使用于各类能源项目中,其根本原因是能源工程项目的周期特殊性以及国内能源类工程公司的技术缺乏。因此在很多情况下,国内工程公司不得不与国外工程公司共同联合体承包EPC项目,因此中外联合体成为了工程项目上一种特殊的项目承包组织。虽然,中外联合体的优势众多,但是由于联合体成员双方文化,利益,管理、经营观点和策略等方面的不同使得合作中出现了大量的内部冲突。本文就是对内部冲突的分析与化解的首先本文将研究EPC模式的特征及构架,参考总结以往相关理论,引入冲突联盟理论,并对其过往研究进行分析。然后通过对EPC项目周期的划分将中外联合体内的冲突按各时间段进行分类,并且将各阶段的冲突强度进行分析。另外由各时间段EPC项目的情况阐述中外联合体内部冲突的诱因。针对各类诱因设计新组织模式,提出冲突预防策略,进一步探讨冲突化解及管理的方法。最后通过案例分析对比之前提出的诱因与冲突管理方式,从实例方面叙述其冲突化解及管理方式的应用。

关键词： EPC工程中外联合体冲突管理联合体协议组织框架

二氧化钛薄膜光催化性能的影响因素及提高途径

同方学位论文库评论

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同方学位论文库

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化工环保 2004年第3期24卷 180-185页

作者：侯亚奇庄大明张弓吴敏生清华大学机械工程系北京100084

TiO2薄膜光催化技术有广阔的应用前景,在国内外得到了广泛的研究。介绍了TiO2薄膜光催化降解的研究现状,指出了影响薄膜光催化性能的若干因素和提高薄膜光催化效率的相应手段。另外,对金属复合、半导体复合对TiO2薄膜光催化性能的影响... 详细信息

TiO2薄膜光催化技术有广阔的应用前景,在国内外得到了广泛的研究。介绍了TiO2薄膜光催化降解的研究现状,指出了影响薄膜光催化性能的若干因素和提高薄膜光催化效率的相应手段。另外,对金属复合、半导体复合对TiO2薄膜光催化性能的影响和可见光催化的研究现状进行了评述。

关键词：二氧化钛薄膜光催化降解影响因素

TiO_2薄膜溅射工艺参数对其光催化性能的影响

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真空科学与技术学报 2004年第2期24卷 87-91,104页

作者：侯亚奇庄大明张弓吴敏生清华大学机械工程系北京100084

利用中频交流反应磁控溅射方法制备TiO2 薄膜光催化剂 ,研究了溅射工艺参数对薄膜光催化能力的影响。采用动态反应系统 ,紫外光源为TUV ,降解对象为 0 0 2mmol/L亚甲基蓝溶液。结果发现 :Ar/O2 混合反应溅射在O2 分压大于 9%之后亦可... 详细信息

利用中频交流反应磁控溅射方法制备TiO2 薄膜光催化剂 ,研究了溅射工艺参数对薄膜光催化能力的影响。采用动态反应系统 ,紫外光源为TUV ,降解对象为 0 0 2mmol/L亚甲基蓝溶液。结果发现 :Ar/O2 混合反应溅射在O2 分压大于 9%之后亦可制备出光催化能力与纯O2 溅射相近的TiO2 薄膜。TiO2 薄膜厚度是影响其光催化降解能力的最敏感因素 ,80 0nm以下TiO2 薄膜降解能力基本与厚度成正比。TiO2 薄膜在黑暗环境下长期放置 ,光催化性能会出现一定下降。

关键词： TiO2薄膜二氧化钛薄膜溅射工艺参数光催化性能磁控溅射中频交流反应