反应溅射制备TiO_2∶MoO_3复合薄膜的光催化降解性能
PHOTOCATALYTIC DEGRADATION PROPERTIES OF TiO_2∶MoO_3 COMPOSITE FILM PREPARED BY REACTIVE MAGNETRON SPUTTERING作者机构：清华大学机械工程系北京100084
出 版 物：《硅酸盐学报》 (Journal of The Chinese Ceramic Society)
年 卷 期：2004年第32卷第6期
页 面：694-699页
核心收录：
学科分类：0817[工学-化学工程与技术] 08[工学] 080501[工学-材料物理与化学] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）] 0703[理学-化学] 0702[理学-物理学]
基 金：国家教育振兴计划资助项目
主 题：三氧化钼复合薄膜 中频交流磁控溅射 光催化降解 亚甲基蓝 吸附
摘 要：利用中频交流磁控溅射技术反应溅射TiMo合金靶(Mo的摩尔分数为10%)制备了TiO2∶MoO3复合薄膜,用XPS,XRD和SEM分析了复合薄膜的成分、结构和表面形貌,并研究了其光催化降解性能。结果发现:反应溅射制备的复合薄膜中Ti,Mo均完全氧化,Mo的摩尔分数约为4%。TiO2∶MoO3复合薄膜由于存在MoO3相,其对亚甲基蓝和甲基橙的光催化效果相对较弱,同时其对亚甲基蓝有极强的吸附作用。薄膜越厚,其中的MoO3相含量越多,薄膜的吸附性能越强,光催化能力越弱。
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