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二维氧化钛表面缺陷精准调控及其催化性能研究

二维氧化钛表面缺陷精准调控及其催化性能研究

作     者:胡珊 江勇 郭世恩 蒋保江 付宏刚 

作者单位:黑龙江大学化学化工与材料学院功能无机材料化学教育部重点实验室 

会议名称:《中国化学会第十九届全国催化学术会议》

会议日期:2019年

学科分类:07[理学] 081705[工学-工业催化] 070205[理学-凝聚态物理] 08[工学] 0817[工学-化学工程与技术] 0702[理学-物理学] 

关 键 词:二维氧化钛 表面缺陷 调控 光催化 

摘      要:正超薄二维材料独特的形貌以及物理化学性质,使其在大幅度提高光催化性能方面显示出巨大潜力。超薄二维半导体具有更大的表面积和更高百分比的表面原子,能够增加光子的吸收,同时提供更多的表面活性位点参与光催化氧化还原反应。具有原子级厚度的超薄二维材料缩短了光生载流子的迁移距离,能够加快光生载流子到表面的传输速度。值得注意的是,超薄二维材料的表面原子很可能从晶格中逃逸形成点缺陷,例如氧空位,这可能导致表面晶格畸变,从而形成更窄的带隙和更高的催化活性。

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