主流离子源在真空镀膜中的应用差异和实用案例分析
作者单位：中山市博顿光电科技有限公司
会议名称：《第三届粤港澳大湾区真空科技创新发展论坛暨2019年广东省真空学会学术年会》
会议日期：2019年
学科分类：08[工学] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）] 080502[工学-材料学]
关 键 词：离子束 离子源 中空阴极离子源 射频离子源 离子源辅助沉积
摘 要：本报告介绍了市场上离子源的各种主流分类应用。重点分析了离子源在真空辅助沉积镀膜领域的工艺应用,分别介绍了直流离子源、射频离子源、霍尔离子源三大类离子源的工作基本原理和典型工作参数,以及各自在应用中的优点和不足。同时以博顿自主研发的中空阴极霍尔离子源和射频离子源产品为基础,针对目前市场普遍关注的几类精密光学镀膜工艺:IR-CUT红外截止滤光片量产化镀膜、金属反射膜低温冷镀、高抗激光损伤光学薄膜、激光晶体镀膜等,以实用案例做关键工艺参数介绍与应用效果分析。通过本报告,我们期望能让国内精密光学镀膜领域的同行了解到国产化高端离子源产品的性能参数与应用实例,共同提升国内精密光学镀膜工艺水平。