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近红外光刺激响应的膜作为牺牲层制备自支持膜

近红外光刺激响应的膜作为牺牲层制备自支持膜

作     者:包春阳 姜毅君 孙俊奇 

作者单位:超分子结构与材料国家重点实验室化学学院吉林大学 

会议名称:《中国化学会第30届学术年会-第二十四分会:超分子组装与软物质材料》

会议日期:2016年

学科分类:07[理学] 070205[理学-凝聚态物理] 08[工学] 080501[工学-材料物理与化学] 0805[工学-材料科学与工程(可授工学、理学学位)] 0702[理学-物理学] 

关 键 词:自支持膜 可降解 牺牲层 近红外光 上转换纳米粒子 

摘      要:牺牲层法是制备自支持膜的一种常用方法,但是能在近红外光下降解的牺牲层尚未见报道。我们制备了一种能在980 nm近红外光下降解的层层组装膜,这种膜由含有带正电的邻硝基苄脂基团的季铵盐聚合物(PNBA-TEA),聚苯乙烯磺酸钠(PSS)、支化聚乙烯基亚胺(bP EI)和带负电的稀土上转换纳米粒子(UCNPs),构成结构为[(PNBA-TEA/PSS)*2/(b PEI/UCNPs)*3]*2的聚电解质复合物膜。该膜中的UCNPs可以将近红外光原位转化成紫外光,而PNBA-TEA又可在上述紫外光下降解并生成带负电的光解产物,该光解产物与PSS之间的静电排斥力能导致[(PNBA-TEA/PSS)*2/(b PEI/UCNPs)*3]*2复合膜的完全解离。当把[(PNBA-TEA/PSS)*2/(b PEI/UCNPs)*3]*2复合膜作为牺牲层,并在其上通过层层组装的方法继续生长50个周期的聚烯丙基胺盐酸盐(PAH)/聚丙烯酸(PAA)薄膜,可在近红外光照射后得到大面积且无缺陷的(PAH\PAA)*50自支持膜。近红外光可降解的牺牲层降解条件温和,并且可以非接触式作用,避免了在溶液中浸泡以实现降解的方法对上层膜结构可能造成的损伤,可以在未来运用于制备多种自支持膜。

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