自组装单分子膜为钝化层实现选择性原子层沉积氧化锌的研究
作者单位：北京印刷学院等离子体物理及材料研究室
会议名称：《第十届全国表面工程大会暨第六届全国青年表面工程论坛》
会议日期：2015年
学科分类：08[工学] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）] 080502[工学-材料学]
关 键 词：自组装 十八烷基三氯硅烷单分子膜 选择性原子层沉积 氧化锌
摘 要：本文报道了在SiO2基底上部分自组装一层致密的十八烷基三氯硅烷单分子膜(OTS-SAMs)作为钝化层实现选择性原子层沉积氧化锌。为了制备致密结构的十八烷基三氯硅烷单分子膜,研究了自组装条件对单分子膜致密性的影响。采用AFM、SE、WCA表征在环境温度25℃,无水甲苯为溶剂,浓度为10mM,浸泡时间为12h得到的OTS-SAMs较为致密。结果为OTS-SAMs接触角为110°,表面粗糙度(Rq)为0.1nm,覆盖率超过99%单分子膜。致密的十八烷基三氯硅烷单分子膜能很好的阻挡原子层沉积(ALD)氧化锌。