掺杂稀土锰氧化物薄膜微应变的X射线衍射研究

作     者：施春龙 

作者单位：南京理工大学 

学位级别：硕士

导师姓名：谭伟石;邓开明

授予年度：2006年

学科分类：08[工学] 0803[工学-光学工程] 

主      题：Rietveld全谱拟合 结构分析 掠入射X射线衍射 应变弛豫 面内晶格常数 

摘      要：掺杂钙钛矿锰氧化物在铁磁相变点附近存在超大磁电阻效应(CMR)。因其在磁记录、磁传感器方面潜在的应用前景及金属—绝缘体相变所涉及的强关联效应，吸引了人们的广泛注意，已成为凝聚态物理研究的重要领域，反过来，对锰氧化物的研究将推动凝聚态物理的进一步发展。 本文利用标准固相反应法制备LaCaMnO(LCMO)和LaBaMnO(LBMO)两种多晶块体材料，并利用Rietveld方法精修其粉末X射线衍射谱，从而得到LaCaMnO和LaBaMnO块体材料的晶格常数。利用90°离轴射频磁控溅射方法在(001)取向的钇稳定氧化锆(YSZ)单晶基片上制备不同厚度的LCMO和LBMO薄膜，通过掠入射X射线衍射技术测量了LCMO／YSZ和LBMO／YSZ薄膜材料的横向晶格常数(即面内晶格常数)，并结合常规X射线衍射研究了这些薄膜样品的晶格应变及其弛豫情况。研究结果表明，对于LCMO／YSZ薄膜，薄膜内部不同位置的面内晶格常数随着与薄膜-基片界面之间距离的增加而减小，表明具有大的晶格失配率的LCMO／YSZ薄膜的应变弛豫可能具有独特的机制，薄膜内不同厚度处的应变是不均匀的。