氟化物材料在深紫外波段的光学常数

作     者：薛春荣 易葵 齐红基 邵建达 范正修 Xue Chun-Rong;Yi Kui;Qi Hong-Ji;Shao Jian-Da;Fan Zheng-Xiu

作者机构：常熟理工学院江苏新型功能材料实验室常熟215500 中国科学院上海光学精密机械研究所上海201800 中国科学技术大学国家同步辐射实验室合肥230029 

出 版 物：《物理学报》 (Acta Physica Sinica)

年 卷 期：2009年第58卷第7期

页      面：5035-5040页

核心收录：

学科分类：08[工学] 0803[工学-光学工程] 

基　　金：国家自然科学基金(批准号:60678004)资助的课题 

主　　题：光学常数 包络法 氟化物材料 深紫外 

摘      要：研究了紫外领域常用的6种大带隙的氟化物薄膜材料,在氟化镁单晶基底上用热舟蒸发镀制了三种高折射率材料薄膜LaF3,NdF3,GdF3和三种低折射率材料薄膜MgF2,AlF3,Na3AlF6;用商用lambda900光谱仪测量了它们在190—500 nm范围的透射率光谱曲线;用包络法研究了它们的折射率和消光系数,研究了影响透射率和光学常数的主要因素,给出了6种氟化物材料的光学常数公式和光谱色散曲线,为紫外技术与应用研究提供了参考.