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CMP设备市场及技术现状

The Present Situation of CMP Equipment Market and Technology

作     者:童志义 TONG Zhi-yi

作者机构:信息产业部电子第四十五研究所,甘肃 平凉 744000 

出 版 物:《电子工业专用设备》 (Equipment for Electronic Products Manufacturing)

年 卷 期:2000年第29卷第4期

页      面:11-18页

学科分类:080903[工学-微电子学与固体电子学] 0809[工学-电子科学与技术(可授工学、理学学位)] 08[工学] 080501[工学-材料物理与化学] 0805[工学-材料科学与工程(可授工学、理学学位)] 080502[工学-材料学] 

主  题:CMP设备 半导体 微电子 平面化技术 

摘      要:综述了全球CMP设备市场概况及适应 0 1 8μm工艺平坦化要求的CMP技术现状 ,给出了向30 0mm圆片转移过程中CMP技术占用成本及CMP设备性能指标。

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