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石墨薄片弯曲度的高分辨率电子显微镜研究

A HIGH RESOLUTION ELECTRON MICROSCOPY INVESTIGATION OF CURVATURE IN MULTILAYER GRAPHITE SHEETS

作     者:王震遐 胡均 王玟珉 俞国庆 阮美龄 

作者机构:中国科学院上海原子核研究所 中国科学院上海硅酸盐研究所高性能陶瓷和超微结构国家重点实验室 

出 版 物:《物理学报》 (Acta Physica Sinica)

年 卷 期:1998年第47卷第11期

页      面:1853-1857页

核心收录:

学科分类:07[理学] 0809[工学-电子科学与技术(可授工学、理学学位)] 070205[理学-凝聚态物理] 08[工学] 0805[工学-材料科学与工程(可授工学、理学学位)] 080502[工学-材料学] 0702[理学-物理学] 

主  题:石墨 弯曲度 高序石墨 TEM 原子晶格平面 

摘      要:报道了一种用高序石墨在乙醇、水或乙醇水混合溶液中超声波处理产生的碳样品.高分辨率电子显微镜揭示出大量具有总角度为θ0(±30℃)倍数的弯曲石墨片存在.显微镜检查表明,弯曲是通过原子晶格平面的偏转而成的.基于石墨的对称轴结构和在sp2石墨网络中类sp3线缺陷的形成。

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