磁共振强磁场中保持稳定悬浮及超顺磁性的微粒粒度研究

作     者：桂维玲 GUI Wei-ling

作者机构：山东师范大学物理与电子科学学院济南250014 

出 版 物：《科学技术与工程》 (Science Technology and Engineering)

年 卷 期：2008年第8卷第8期

页      面：2166-2168页

学科分类：07[理学] 0809[工学-电子科学与技术（可授工学、理学学位）] 070205[理学-凝聚态物理] 08[工学] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）] 080502[工学-材料学] 0702[理学-物理学] 

基　　金：山东省科技厅计划项目(003130103) 山东省教育厅科技计划项目(JOOK51)资助 

主　　题：超顺磁性氧化铁 磁共振造影剂 临界尺寸 稳定悬浮 

摘      要：用超顺磁性氧化铁制备磁共振造影剂的多篇报道中，Fe3O4磁粒的尺寸大致在15～50nm之间。根据超顺磁性理论推导出显示超顺磁现象的临界尺寸理论值为25nm，在1．5T磁共振磁场中的临界值为7．1nm。分析了在强磁场中包覆有表面活性剂的Fe3O4磁粒的粒径在大于理论计算的临界尺寸时，仍有可能保持超顺磁状态。根据磁学理论，分析了磁共振造影剂稳定的机理；推导出在磁共振磁场中，Fe3O4磁粒在造影剂中稳定悬浮的极限尺寸为13．3nm。指出造影剂中的Fe3O4磁粒既能稳定悬浮又具有超顺磁性的合适尺寸为10nm左右。