中国知识产权保护的新视点──《集成电路布图设计保护条例》立法简介
New Focus on the Protection of Intellectual Property Rights in China--A Brief Introduction to the Rule on the Protection of the Giraphic Designs of Integrated Circuit Layout作者机构：国务院法制办公室教科文卫法制司
出 版 物：《科技与法律》 (Science Technology and Law)
年 卷 期：2001年第2期
页 面：104-108页
学科分类：0301[法学-法学] 03[法学] 030105[法学-民商法学(含：劳动法学、社会保障法学)]
主 题：中国 知识产权 法律保护 集成电路布图设计保护条例 集成电路布图设计 布图设计专有权 合理使用
摘 要：2001年4月2日,国务院总理朱鎔基签署第300号国务院令,公布了(以下简称条例),自2001年10月1日起施行.条例的颁布,标志着我国保护知识产权的法律制度更加完备,同时也表明了中国政府一如既往地重视和保护知识产权的态度.由于工作的关系,笔者参加了条例的起草、审查过程,现将条例制定过程中的一些情况及条例的主要内容作简要介绍,希望能对准确理解条例有所帮助.
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