利用Heck反应制备3-甲基噻吩与芴的嵌段共聚物及其性能

作     者：张杰 李坚 孙明慧 

作者机构：江苏工业学院材料科学与工程学院江苏常州213100 

出 版 物：《高分子材料科学与工程》 (Polymer Materials Science & Engineering)

年 卷 期：2011年第27卷第7期

页      面：155-158页

核心收录：

学科分类：08[工学] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）] 080502[工学-材料学] 

主　　题：Heck反应 噻吩芴交替共聚物 噻吩芴嵌段共聚物 

摘      要：采用Heck反应合成了3-甲基噻吩齐聚物及3-甲基噻吩与芴的交替和嵌段共聚物。用凝胶渗透色谱(GPC)、核磁共振谱(1H-NMR)、紫外-可见光谱和荧光光谱对所得聚合物进行了表征。结果表明,利用Heck反应成功地制备了上述聚合物。在溶液和薄膜状态下嵌段共聚物与交替共聚物的最大紫外吸收峰分别为414 nm、394 nm和428.5 nm、397nm。两种共聚物在薄膜状态下和氯仿溶液中的能隙宽度分别为2.21 eV、2.68 eV和2.46 eV、2.76 eV。在聚芴链中引入噻吩链段后,共聚物的紫外吸收和荧光发射峰均发生明显红移,且随噻吩结构单元数的增加红移程度变大,聚合物的能隙宽度逐渐变小。