基于周期反转模式的表面暗电流抑制

作     者：张闻文 陈钱 Zhang Wenwen;Chen Qian

作者机构：南京理工大学电子工程与光电技术学院江苏南京210094 

出 版 物：《光学学报》 (Acta Optica Sinica)

年 卷 期：2008年第28卷第7期

页      面：1283-1286页

核心收录：

学科分类：080901[工学-物理电子学] 0809[工学-电子科学与技术（可授工学、理学学位）] 07[理学] 08[工学] 080401[工学-精密仪器及机械] 0804[工学-仪器科学与技术] 070401[理学-天体物理] 0803[工学-光学工程] 0704[理学-天文学] 

基　　金：国防基础科研项目(A2620060242) 装备预研项目(4040508011)资助课题 

主　　题：图像处理 微光成像 表面暗电流抑制 周期反转模式 电子倍增CCD 

摘      要：为了抑制电子倍增CCD的表面暗电流,运用Shockley-Read-Hall理论解释了表面暗电流的产生过程,通过曲线拟合建立了表面暗电流的理论模型,定量分析了电子倍增CCD从反转模式切换到非反转模式后表面暗电流的恢复特征时间。根据这一时间特性提出了周期反转模式的概念,在信号积分期里对成像区时钟进行调制,加入周期反转脉冲,使器件以小于表面暗电流恢复特征时间的周期在反转与非反转模式之间切换。仿真结果表明,随着周期反转频率的提高,表面暗电流明显减小。当时钟周期为0.2 ms时,平均表面暗电流降低到0.051 nA/cm2,接近反转模式的水平,与理论分析完全一致,验证了周期反转模式的可行性。