一种等离子化学气相沉积镀膜方法和设备
作者机构：北京航空航天大学
出 版 物：《表面技术》 (Surface Technology)
年 卷 期：2008年第37卷第2期
页 面：84-84页
学科分类：080903[工学-微电子学与固体电子学] 0809[工学-电子科学与技术（可授工学、理学学位）] 08[工学] 080202[工学-机械电子工程] 080501[工学-材料物理与化学] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）] 080502[工学-材料学] 0802[工学-机械工程]
主 题：等离子化学气相沉积 镀膜方法 设备 等离子场 电弧喷枪 等离子炬 金属氯化物 真空炉
摘 要：本发明中等离子化学气相沉积镀膜方法和设备包括：传统的可抽成真空的炉体；将汽化的、含有金属氯化物的和其它工作气体通入所述真空炉体内的装置；放置在真空炉体中的被镀工件与电极阴极相连，将炉体与阳极相连。阳极接地，阴极施加负电压，将电压升高到一定程度后，阴、阳级之间产生辉光等离子场；在所述炉内设置一个能喷出等离子炬的电弧喷枪。电弧喷枪喷出的等离子炬直接进入到辉光等离子场中。
维普期刊数据库