偏压对镁合金表面磁控溅射CrAlTiN膜层的影响
Effect of Bias on CrAITiN Coatings on Magnesium Alloy by Magnetron Sputtering作者机构：西安理工大学材料科学与工程学院陕西西安710048
出 版 物：《金属热处理》 (Heat Treatment of Metals)
年 卷 期：2005年第30卷第C期
页 面：211-214页
核心收录：
学科分类：080503[工学-材料加工工程] 08[工学] 080502[工学-材料学] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）]
摘 要：使用闭合场非平衡磁控溅射离子镀体系于镁合金表面制备了CrAlTiN膜层，检测了膜层厚度和硬度，在扫描电子显微镜（SEM）下观察了膜层的表面形貌和截面形貌，使用了X衍射仪分析了膜层的相组成。结果表明：薄膜组织为纤维状柱状晶组织，随着偏压增大，膜层表面致密性增强，颗粒头部平滑，颗粒间孔洞减少；CrAlTiN薄膜具有与CrN相同的晶体结构，在偏压为40V时出现了（111）晶面的择优取向，在60V时出现了（220）晶面的择优取向。
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