分子束外延生长的极性与非极性BeZnO薄膜的比较研究(英文)
Comparative Study of Polar and Non-polar BeZnO Films Grown by Plasma-assisted Molecular Beam Epitaxy作者机构:中山大学理工学院光电材料国家重点实验室广东广州510000 中国科学院深圳先进技术研究院广东深圳518055 香港科技大学物理系
出 版 物:《发光学报》 (Chinese Journal of Luminescence)
年 卷 期:2013年第34卷第11期
页 面:1483-1488页
核心收录:
学科分类:080903[工学-微电子学与固体电子学] 0809[工学-电子科学与技术(可授工学、理学学位)] 08[工学] 080501[工学-材料物理与化学] 0805[工学-材料科学与工程(可授工学、理学学位)] 080502[工学-材料学]
基 金:国家“973”项目(2011CB302000) 国家自然科学基金重点项目(51232009)资助
摘 要:采用分子束外延设备在不同晶面蓝宝石衬底上(c面,a面,r面)生长BeZnO薄膜。使用复合缓冲层生长得到了高质量的BeZnO薄膜,X射线衍射半高宽达到600 arcsec。在c面与a面蓝宝石衬底上生长得到了极性BeZnO薄膜,在r面蓝宝石上生长得到了非极性BeZnO薄膜。共振拉曼光谱测试结果表明薄膜中的Be含量在同一水平。相对于c面与a面蓝宝石上的极性BeZnO薄膜,生长在r面蓝宝石衬底上的非极性BeZnO薄膜具有较大的表面粗糙度以及较大的半高宽,但是其光致发光谱中的紫外发光峰远远强于极性BeZnO薄膜,并且黄绿光发光峰弱于极性BeZnO薄膜。