椭圆偏振仪测量薄膜厚度和折射率
Thin Film Material Thickness and Refractive Index Measurement by Elliptical Polarization Instrument作者机构：云南师范大学太阳能研究所
出 版 物：《云南师范大学学报（自然科学版）》 (Journal of Yunnan Normal University:Natural Sciences Edition)
年 卷 期：2005年第25卷第4期
页 面：24-27页
学科分类：080703[工学-动力机械及工程] 08[工学] 0807[工学-动力工程及工程热物理]
摘 要：文章通过对椭偏仪测量原理的分析给出了四区平均消光状态下的计算公式,利用该公式计算在一个周期内的薄膜厚度和折射率结果较好;同时给出了膜厚大于一个周期时的计算方法。
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