面向Top-Down设计流的表面微加工掩膜推导方法
Mask Deduction for Surface Micromachining to Support Top-Down Design Flow作者机构：西安交通大学机械制造系统工程国家重点实验室西安710049 西安交通大学CAD/CAM研究所西安710049
出 版 物：《计算机辅助设计与图形学学报》 (Journal of Computer-Aided Design & Computer Graphics)
年 卷 期：2007年第19卷第6期
页 面：798-803页
核心收录：
学科分类：081203[工学-计算机应用技术] 08[工学] 0835[工学-软件工程] 0812[工学-计算机科学与技术（可授工学、理学学位）]
主 题：微器件 掩膜推导 Top—Down 工艺模型 表面微加工
摘 要：针对表面硅微加工,运用层模型间几何元素运算获得粗掩膜的基本数据.采用工艺约束修演得到精掩膜,解决了多层刻蚀与可加工性问题,并进行模型重构,以校正设计模型的工艺不合理性.应用协同的方法解决了设计端模块与工艺端模块的集成问题,最终得到优化的设计模型和掩膜序列.
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