掺碳GaAs生长特性的研究
Characterization of Growth of Carbon Doped GaAs with Microscope作者机构：信息功能材料国家重点实验室中国科学院上海冶金研究所200050
出 版 物：《固体电子学研究与进展》 (Research & Progress of SSE)
年 卷 期：1997年第17卷第4期
页 面：333-339页
核心收录：
学科分类：080903[工学-微电子学与固体电子学] 0809[工学-电子科学与技术（可授工学、理学学位）] 08[工学] 080501[工学-材料物理与化学] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）] 080502[工学-材料学]
摘 要：采用以碳纤维为碳源的固态源MBE技术，生长了不同厚度的重接碳GaAs以及具有不同表层厚度的δ碳掺杂GaAs，通过Nomarski干涉显微镜和原子力显微镜（AFM）对样品表面形貌的观察，分析了挨碳GaAs的生长过程和各种缺陷的产生，提出碳的掺入导致了GaAs材料的三维岛状生长，促进了各种缺陷的力生。提出了通过改善生长条件减少缺陷的途径。
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