快速热退火对纳米晶粒SnO2薄膜性质的影响
EFFECT OF RAPID THERMAL ANNEALING ON PROPERTY OF NANO-SnO_2 THIN FILM作者机构:华东师范大学信息学院上海200241 上海大学分析测试中心上海200444
出 版 物:《红外与毫米波学报》 (Journal of Infrared and Millimeter Waves)
年 卷 期:2008年第27卷第2期
页 面:101-104页
核心收录:
学科分类:080903[工学-微电子学与固体电子学] 0809[工学-电子科学与技术(可授工学、理学学位)] 08[工学] 080501[工学-材料物理与化学] 0805[工学-材料科学与工程(可授工学、理学学位)] 080502[工学-材料学]
基 金:上海市教委科研基金(2006AZ113) 上海市教委优秀青年教师科研专项基金 国家自然科学基金(60677022) 上海重点学科建设项目(B411)资助项目
主 题:纳米二氧化锡 溶胶-凝胶法(sol-gel) 快速热退火(RTA)
摘 要:以SnC l2.2H2O及无水乙醇为原料,利用溶胶-凝胶法在快速热退火下制备了SnO2纳米薄膜,研究了快速热退火(RTA)对SnO2薄膜性质的影响.采用X射线衍射谱(XRD)、扫描电子显微镜(SEM),研究了薄膜的晶粒尺寸、微结构、表面形貌与快速热退火条件的关联,用傅里叶变换红外光谱(FT-IR)和光致发光研究了薄膜的光学性质.结果表明,快速热退火(RTA)温度对薄膜的光学性质、晶粒尺寸和薄膜的结构形态均有较大的影响.