静电雾化法制备二氧化硅微粒的研究
Silicon dioxide formation by electrostatic atomization作者机构：大连海事大学环境科学与工程学院辽宁大连116026 日本群马大学化学与环境工程学院群马3768515
出 版 物：《大连海事大学学报》 (Journal of Dalian Maritime University)
年 卷 期：2012年第38卷第4期
页 面：88-90页
学科分类：081704[工学-应用化学] 07[理学] 0707[理学-海洋科学] 08[工学] 0817[工学-化学工程与技术] 0815[工学-水利工程] 0824[工学-船舶与海洋工程] 0802[工学-机械工程] 0703[理学-化学] 070301[理学-无机化学] 0702[理学-物理学]
基 金：中央高校基本科研业务费专项资金资助项目(2012QN056)
摘 要：以水玻璃为原料,采用静电雾化法制备二氧化硅,研究静电雾化法制备二氧化硅的相关试验条件对二氧化硅粒径大小的影响.试验结果表明,随着外加电压增加或者电极间距减小,施加在放电电极的静电力增强,水玻璃流速变快,由水滴逐渐变成线直至成雾状;形成的二氧化硅微粒粒径逐渐变小;随着脉冲频率升高,二氧化硅微粒粒径也逐渐变小.
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