三新戊氧基溴硼亚酞菁薄膜材料的三阶非线性光学特性

作     者：顾玉宗 干福熹 尹国盛 余保龙 

作者机构：中国科学院上海光学精密机械研究所上海201800 河南大学物理系开封475001 

出 版 物：《光学学报》 (Acta Optica Sinica)

年 卷 期：2002年第22卷第2期

页      面：144-147页

核心收录：

学科分类：081704[工学-应用化学] 07[理学] 08[工学] 0817[工学-化学工程与技术] 070303[理学-有机化学] 0703[理学-化学] 0803[工学-光学工程] 

基　　金：国家自然科学基金 (5 970 2 0 0 2 ) 河南大学校内基金(9910 475 0 94)资助课题 

主　　题：三阶非线性 非线性吸收 Z扫描技术 非线性光学 共振 三新戊氧基溴硼亚酞菁 薄膜材料 

摘      要：通过单光束Z扫描技术 ,在波长为 1.0 6 4μm和 5 32nm、脉宽为 38ps条件下研究了一种新的酞菁相关化合物三新戊氧基溴硼亚酞菁薄膜材料的三阶非线性光学特性。观察到在 1.0 6 4μm(离强吸收带很远 )下的双光子吸收和在 5 32nm下的反饱和吸收现象 ,并计算出了相应的非线性吸收系数。在 1.0 6 4μm下的非共振三阶非线性极化率和在 5 32nm下的共振三阶非线性极化率 χ(3 ) 分别为 6 .1× 10 - 1 2 esu和 6 .7× 10 - 1 0 esu ,显著大于相关酞菁的值。这些结果表明三新戊氧基溴硼亚酞菁薄膜材料在非线性光学方面具有潜在的应用前景。