溅射功率对氮化锌薄膜特性的影响
Effect of Sputtering Power on Properties of Zinc Nitride Flims作者机构：山东大学(威海)空间科学与物理学院山东威海264209 威海蓝星玻璃股份有限公司山东威海264205 威海中玻光电有限公司山东威海264205
出 版 物：《光电子技术》 (Optoelectronic Technology)
年 卷 期：2013年第33卷第3期
页 面：155-159页
学科分类：080903[工学-微电子学与固体电子学] 0809[工学-电子科学与技术（可授工学、理学学位）] 08[工学] 080501[工学-材料物理与化学] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）] 080502[工学-材料学]
主 题：氮化锌薄膜 磁控反应溅射法 结构特性 电学特性 光学特性
摘 要：在玻璃衬底上通过磁控反应溅射法,利用纯金属Zn靶,在N2-Ar等离子体氛围中制备出氮化锌薄膜。X射线衍射谱表明氮化锌具有(4 0 0)择优取向,反方铁锰矿结构。研究了溅射功率对氮化锌薄膜结构、电学及光学性质的影响。
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