超精密掩模台位移测量系统热漂移研究

作     者：云攀攀 张文涛 王献英 Yun Panpan;Zhang Wentao;Wang Xianying

作者机构：桂林电子科技大学电子工程与自动化学院广西桂林541004 上海微电子装备(集团)股份有限公司上海201203 

出 版 物：《仪器仪表用户》 (Instrumentation)

年 卷 期：2019年第26卷第7期

页      面：11-14页

学科分类：08[工学] 0803[工学-光学工程] 

基　　金：国家科技重大专项(02专项)子课题(No.2017ZX02101007-003) 国家自然科学基金(61565004) 

主　　题：光栅干涉仪 位移测量 热漂移 掩模台 

摘      要：针对28nm浸没式扫描光刻机掩模台的光栅干涉仪位移测量系统,开展了系统热漂移研究,并进行了热漂移测试实验与结果分析。该位移测量系统采用外差对称式四细分的光路设计以及栅距为1μm的二维光栅,配合2048倍电子细分的相位计数卡,其系统分辨力达到了0.12nm。热漂移测试结果显示:该系统的热漂移X向为17.86nm/K,Y向为41.43nm/K。在光刻机掩模台的实际测量环境中,测量环境的温度波动稳定在5mK以内,此时系统的热漂移X向可以控制在0.09nm以内,Y向可以控制在0.21nm以内。实验数据表明系统的热漂移误差小于1nm,满足掩模台亚纳米位移测量精度需求。