Ni/SiO2在甲烷部分氧化反应中的稳定性:W修饰的影响

作     者：连孟水 王雅莉 赵明全 李倩倩 翁维正 夏文生 万惠霖 LIAN Mengshui;WANG Yali;ZHAO Mingquan;LI Qianqian;WENG Weizheng;XIA Wensheng;WAN Huilin

作者机构：厦门大学化学化工学院固体表面物理化学国家重点实验室醇醚酯化工清洁生产国家工程实验室福建省理论计算化学重点实验室 

出 版 物：《物理化学学报》 (Acta Physico-Chimica Sinica)

年 卷 期：2019年第35卷第6期

页      面：607-615页

核心收录：

学科分类：081702[工学-化学工艺] 081705[工学-工业催化] 08[工学] 0817[工学-化学工程与技术] 080502[工学-材料学] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）] 

基　　金：国家自然科学基金(21373169) 教育部创新团队(IRT1036)资助项目~~ 

主　　题：甲烷部分氧化 稳定性 Ni基催化剂 钨修饰 

摘      要：甲烷部分氧化制合成气反应(POM)是天然气、页岩气资源利用的重要途径之一,常用的Ni/SiO2催化剂在反应中易发生表面积炭而失活。为了解决这一问题,我们采用尿素沉淀法制备W修饰的Ni基催化剂,并考察其在POM反应中的稳定性和W的作用。结果表明,催化剂中适量W的存在可显著改善其POM反应稳定性。其原因为Ni-W作用修饰了Ni的化学态或其亲氧能力,从而改善了其表面抗积炭能力。此外,反应中催化剂表面形成的α-WC具有一定的抑制表面积炭形成的能力,且该α-WC具有良好的稳定性。