薄膜制作技术的现状
作者机构：日本东京大学工程系
出 版 物：《压电与声光》 (Piezoelectrics & Acoustooptics)
年 卷 期：1989年第11卷第1期
页 面：63-68页
核心收录：
学科分类：08[工学] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）]
摘 要：一、前言 薄膜制作技术有多种方法。本文只介绍采用真空技术的薄膜制作技术。最基本的薄膜制作法可大致分为两种,一种是选择除去法,另一种是附加法。 前者是在某种化合物存在固体表面时,只除去表面的特定原子,使表面形成与其内部异质的薄层,从而形成薄膜。该薄膜与其下部的物质附着性极好,但形成的薄膜和其基片材料受到很大制约,所以该法用得不多。
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