铁电薄膜与底电极之间界面的异质结效应
The Heterojunction Effect at the Interface of Ferroelectric Thin Film and Bottom Electrode作者机构：武汉邮电科学研究院固体器件研究所武汉430074
出 版 物：《真空科学与技术》 (Vacuum Science and Technology)
年 卷 期：1997年第17卷第4期
页 面：259-263页
学科分类：080801[工学-电机与电器] 0808[工学-电气工程] 08[工学] 080501[工学-材料物理与化学] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）] 080502[工学-材料学]
摘 要：铁电薄膜与底电极之间由于高温扩散而形成了界面层，且观察到其对薄膜电性能的影响类似于硅衬底上铁电薄膜的异质结效应。基于能带理论的考虑，建立物理模型来解释其影响。该界面异质结模型不仅可以解释铁电薄膜的界面分层、电滞回线不对称等现象，而且还成功地解释了电滞回线中心在极化轴上的偏移和疲劳循环过程中的偏移增加，并探讨了这种偏移对铁电薄膜疲劳特性的影响。
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