Ag/Ni多层膜的界面自由能研究
Measurement of interfacial free energy of Ag/Ni multiplayer films作者机构：华中科技大学模具技术国家重点实验室武汉430074
出 版 物：《功能材料与器件学报》 (Journal of Functional Materials and Devices)
年 卷 期：2005年第11卷第1期
页 面：92-96页
学科分类：08[工学] 080502[工学-材料学] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）]
摘 要：利用多层膜零蠕变法,直接测量Si(111)单晶片上沉积的Ag/Ni多层膜界面自由能。通过基片曲率法实时测量Ag/Ni多层膜升温退火过程中的应力变化,在450°C保温,发现此时多层膜达到平衡状态,最终的平衡应力为0.57MPa,计算出Ag/Ni的界面自由能γint为0.63J/m2,最后结合XRD测试结果和SEM剖面形貌,从界面能角度对多层膜的稳定性进行了分析讨论。
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