基于角谱理论的厚层光刻胶衍射光场研究
Study of Diffractive Field Based Angular Spectrum Theory in Thick Film Photoresist作者机构：四川大学物理科学与技术学院成都610064
出 版 物：《光学学报》 (Acta Optica Sinica)
年 卷 期：2004年第24卷第12期
页 面：1691-1696页
核心收录：
学科分类：0808[工学-电气工程] 070207[理学-光学] 0809[工学-电子科学与技术（可授工学、理学学位）] 07[理学] 08[工学] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）] 0803[工学-光学工程] 0702[理学-物理学]
基 金：国家自然科学基金(60276018)中国科学院光电研究所微细加工技术国家重点实验室资助课题
主 题：物理光学 光刻 角谱理论 传递函数 厚层光刻胶 快速傅里叶算法
摘 要：为快速、准确地获得厚层光刻胶内部衍射光场的分布,利用角谱理论的思想,考虑入射光通过掩模后在光刻胶面的反射、透射和光刻胶曝光过程中其折射率及吸收系数在深度方向上的变化,建立了衍射光场在厚层光刻胶中传输的理论模型。为减小计算量,对快速傅里叶算法进行了改进。该方法数值计算速度快,计算结果准确,并适用于光在折射率渐变的其它介质中的传播。最后,对厚层光刻胶中光场分布进行了数值模拟;计算模拟表明,对于厚层光刻胶,其表面的反射、透射和折射率及吸收系数在深度方向变化对衍射光场分布有明显的影响。
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