Pt/WO_3纳米薄膜的氢敏特性
Gas Sensitivity to H_2 of P_t-WO_3 Thin Film作者机构:重庆科技学院安全工程学院重庆401331 重庆大学机械传动国家重点实验室重庆400030 重庆大学化学化工学院/光电技术及系统教育部重点实验室重庆400030 中国工程物理研究院结构力学研究所四川绵阳621000
出 版 物:《材料科学与工程学报》 (Journal of Materials Science and Engineering)
年 卷 期:2008年第26卷第5期
页 面:761-764,769页
核心收录:
学科分类:080903[工学-微电子学与固体电子学] 0809[工学-电子科学与技术(可授工学、理学学位)] 08[工学] 080501[工学-材料物理与化学] 0805[工学-材料科学与工程(可授工学、理学学位)] 080502[工学-材料学]
基 金:国家自然科学基金资助项目(10376045) 重庆市自然科学基金资助项目(8418)
主 题:Pt/WO3纳米薄膜 氢敏特性 机理
摘 要:用溶胶-凝胶法和磁控溅射法相结合制备了催化剂Pt掺杂的WO3纳米薄膜,通过改变氢气的体积分数、催化剂Pt的含量及热处理温度等实验因素,对Pt/WO3薄膜的氢致变色性能进行了测试;并利用X射线光电子能谱仪(XPS)分析了薄膜的氢敏机理。实验结果表明:先用溶胶-凝胶法制得WO3薄膜,然后再用磁控溅射法在该WO3薄膜上溅射掺杂5%的Pt,制得Pt/WO3双层纳米薄膜,经100℃热处理后,可以获得性能稳定且具有良好氢敏特性的优质薄膜;薄膜能检测的氢气浓度低至0.008%;XPS分析表明,W5+与W6+之间的转换是引起WO3薄膜氢致变色现象的主要原因。