灰阶编码掩模制作微光学元件
Coding Gray-Tone Mask for Fabrication of Microoptical Elements作者机构：四川大学物理系成都610064 英国卢瑟福国家实验室
出 版 物：《光学学报》 (Acta Optica Sinica)
年 卷 期：2001年第21卷第1期
页 面：97-100页
核心收录：
学科分类：080903[工学-微电子学与固体电子学] 0809[工学-电子科学与技术（可授工学、理学学位）] 08[工学] 080501[工学-材料物理与化学] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）] 080502[工学-材料学] 0803[工学-光学工程]
基 金：中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室资助项目
摘 要：提出一种基于改变灰阶编码掩模的单元形状和位置的掩模设计新方法 ,并根据成像过程中的非线性因素 ,用这种方法对掩模图形进行了预畸变校正。根据部分相干光成像理论和抗蚀剂曝光显影模型 ,模拟计算了这种灰阶编码掩模产生的空间光强分布和光刻胶上的浮雕结构。采用电子束曝光系统制作了这种掩模 。
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