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2006半导体市场3大热点 65nm工艺、低功耗、亚太崛起

作     者:黄继宽 

出 版 物:《电子与电脑》 (Compotech)

年 卷 期:2005年第5卷第12期

页      面:24-26页

学科分类:080903[工学-微电子学与固体电子学] 0202[经济学-应用经济学] 02[经济学] 020205[经济学-产业经济学] 0809[工学-电子科学与技术(可授工学、理学学位)] 08[工学] 080501[工学-材料物理与化学] 0805[工学-材料科学与工程(可授工学、理学学位)] 080502[工学-材料学] 

主  题:半导体市场 65nm工艺 低功耗 半导体业 工艺技术 摩尔定律 芯片设计 竞争对手 光罩 

摘      要:摩尔定律在2006年仍将持续领导半导体业界向65nm推进,然而日趋复杂的芯片设计与高昂的工艺技术研发与光罩成本,势必将让半导体业界走向两极化--大厂持续靠着工艺技术优势在效能与功耗上领先竞争对手,而小厂仅能依靠独到的市场嗅觉在市场上找到利基.

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