大焦深数字灰度光刻物镜设计

作     者：胡思熠 许忠保 HU Si-yi;XU Zhong-bao

作者机构：湖北工业大学机械工程学院武汉430068 

出 版 物：《激光技术》 (Laser Technology)

年 卷 期：2013年第37卷第4期

页      面：464-468页

核心收录：

学科分类：080903[工学-微电子学与固体电子学] 080901[工学-物理电子学] 0809[工学-电子科学与技术（可授工学、理学学位）] 08[工学] 080401[工学-精密仪器及机械] 080501[工学-材料物理与化学] 0804[工学-仪器科学与技术] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）] 080502[工学-材料学] 0803[工学-光学工程] 

基　　金：国家自然科学基金资助项目(61077086) 湖北省重点自然科学基金资助项目(2011CDA007) 

主　　题：光学设计 长焦深 相位型光瞳滤波器 无掩膜光刻 

摘      要：为了提高数字灰度光刻系统的焦深,研究了基于点扩散函数稳定性的光瞳编码优化方法,在此基础上综合考虑系统的成像对比度和分辨率,利用工程计算软件MAPLE和光学设计软件ZEMAX设计了一种分辨率为1μm的含有5区相位型光瞳滤波器的长焦深数字灰度光刻系统。结果表明,系统调制传递函数表现出离焦不变性,在保证像方分辨率的前提下,系统的焦深被延拓到原有焦深的2.5倍以上,且在整个焦深空间内系统性能与焦点处保持一致,从而提高了光刻系统的工艺容限。所得实验结果与理论分析一致,说明了设计的可行性。