盘状液晶的枝蔓化、特征及时间演化
作者机构：南京大学固体微结构物理实验室南京210008 苏州大学物理系苏州215006
出 版 物：《中国科学（A辑）》 (Science in China(Series A))
年 卷 期：1990年第21卷第4期
页 面：403-408页
核心收录：
学科分类：08[工学] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）] 080502[工学-材料学]
基 金：国家自然科学基金
摘 要：本文研究了盘状液晶RHO的枝蔓化、生长特征及时间演化,实验表明,RHO液晶的枝蔓化结构对于表面处理、液膜厚度及衬底材料的影响是敏感的,枝蔓结构的尖端速度在连续冷却的条件下保持常数,尖端速度对于过冷率的函数关系是线性的,针对实验和目前简化理论的歧离,我们指出,在远离平衡的条件下和连续冷却的过程中,热涨落和维度性在枝蔓化中起着重要的、不可忽略的作用。
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