MBE原位碲化镉钝化的碲镉汞长波光电二极管列阵
HgCdTe photodiode arrays passivated by MBE in-situ grown CdTe film作者机构:中国科学院上海技术物理所红外成像材料与器件重点实验室上海200083 中国科学院研究生院北京100039
出 版 物:《红外与毫米波学报》 (Journal of Infrared and Millimeter Waves)
年 卷 期:2011年第30卷第6期
页 面:495-498,517页
核心收录:
学科分类:080903[工学-微电子学与固体电子学] 0809[工学-电子科学与技术(可授工学、理学学位)] 08[工学] 080501[工学-材料物理与化学] 0805[工学-材料科学与工程(可授工学、理学学位)] 080502[工学-材料学]
基 金:中国科学院国防科技创新基金(cxjj-10-m29) 国家自然科学基金((6070612)
摘 要:采用分子束外延(MBE)技术在表面生长碲化镉(CdTe)介质膜的p型碲镉汞(HgCdTe)材料,并通过离子注入区的光刻、暴露HgCdTe表面的窗口腐蚀、注入阻挡层硫化锌(ZnS)的生长、形成p-n结的B+注入、注入阻挡层的去除、绝缘介质膜ZnS的生长、金属化和铟柱列阵的制备等工艺,得到了原位CdTe钝化的n+-on-p平面型HgCdTe红外光电二极管列阵.从温度为78 K的电流与电压(I-v)和动态阻抗与电压(R-v)特性曲线中,发现原位CdTe钝化的光电二极管列阵的零偏动态阻抗比非原位CdTe钝化的提高了1~2倍,零偏压附近的反向偏压位置的动态阻抗极大值甚至提高了30~40倍.对于工作在反向小偏压附近的光电二极管列阵,原位CdTe钝化方法非常有利于提高长波光电二极管的探测性能.