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纳米光刻技术的现状和未来

THE PRESENT AND FUTURE OF NANOLITHOGRAPHY

作     者:陈献忠 姚汉民 陈旭南 李展 罗先刚 

作者机构:中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室成都610209 

出 版 物:《物理》 (Physics)

年 卷 期:2002年第31卷第11期

页      面:691-695页

学科分类:080903[工学-微电子学与固体电子学] 0809[工学-电子科学与技术(可授工学、理学学位)] 08[工学] 080501[工学-材料物理与化学] 0805[工学-材料科学与工程(可授工学、理学学位)] 080502[工学-材料学] 

基  金:中国科学院知识创新工程项目 (批准号 :A2K0 0 0 9) 微细加工光学技术国家重点实验室开放基金课题 (批准号 :KFS4)资助项目 

主  题:纳米技术 纳米光刻 纳米结构制作 应用前景 纳米材料 

摘      要:纳米技术是 2 1世纪信息科学的一项关键技术 ,纳米结构制作是纳米技术的重要组成部分 .纳米光刻技术是制作纳米结构的基础 ,具有重要的应用前景 .文章对光学光刻技术进行了概述 ,介绍了几种纳米光刻技术的新途径、发展现状和关键问题 。

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