射频磁控溅射法制备ZnO薄膜的绿光发射
Green Photoluminescence Emitted from ZnO Films Deposited by r. f. Magnetron Sputtering作者机构：山东大学物理与微电子学院山东济南250100
出 版 物：《发光学报》 (Chinese Journal of Luminescence)
年 卷 期：2004年第25卷第3期
页 面：291-294页
核心收录：
学科分类：080903[工学-微电子学与固体电子学] 0809[工学-电子科学与技术（可授工学、理学学位）] 07[理学] 070205[理学-凝聚态物理] 08[工学] 080501[工学-材料物理与化学] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）] 0702[理学-物理学]
基 金：国家自然科学基金 ( 60 0 760 0 6) 教育部博士项目基金 ( 2 0 0 0 0 42 2 0 4)资助项目
摘 要：用射频磁控溅射法 ,在硅衬底上制备出具有良好的 (0 0 2 )择优取向的多晶ZnO薄膜。研究了室温下薄膜的光致发光特性 ,观察到显著的单绿光发射 (波长为 5 1 4nm)峰。在氧气中 830℃高温退火后 ,薄膜结晶质量明显提高 ,绿光发射峰强度变弱 ;在真空中 830℃高温退火后 ,绿光发射峰强度增加。
维普期刊数据库
同方期刊数据库