质量分离低能离子束沉积碳膜及离子轰击效应
CARBON FILM DEPOSITED BY MASS-SELECTED LOW ENERGY ION BEAM TECHNIQUE AND ION BOMBARDMENT EFFECT作者机构：中国科学院半导体研究所半导体材料科学实验室北京100083 香港城市大学物理和材料科学系
出 版 物：《物理学报》 (Acta Physica Sinica)
年 卷 期：2000年第49卷第11期
页 面：2186-2190页
核心收录：
学科分类：08[工学] 080501[工学-材料物理与化学] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）]
摘 要：用质量分离的低能离子束沉积技术得到了非晶碳薄膜 ,X射线衍射、Raman谱以及俄歇深度谱的线形表明 ,此种非晶碳膜中镶嵌着金刚石颗粒 .碳离子的浅注入是该碳膜SP3 形成的主要机理 .
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