微柱透镜阵列的全息-光刻胶热熔制作技术

作     者：任智斌 姜会林 付跃刚 张磊 田继文 齐向东 李文昊 REN Zhi-bin;JIANG Hui-lin;FU Yue-gang;ZHANG Lei;TIAN Ji-wen;QI Xiang-dong;LI Wen-hao

作者机构：长春理工大学光电工程学院长春130022 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所长春130033 

出 版 物：《微细加工技术》 (Microfabrication Technology)

年 卷 期：2006年第4期

页      面：17-20页

学科分类：080903[工学-微电子学与固体电子学] 0809[工学-电子科学与技术（可授工学、理学学位）] 08[工学] 080501[工学-材料物理与化学] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）] 080502[工学-材料学] 

主　　题：微柱透镜阵列 全息曝光 光刻胶热熔 

摘      要：为改善微柱透镜阵列的制作技术、消除光刻工艺对光刻掩模版的依赖,研究了利用全息-热熔技术制作微柱透镜阵列的新方法,即首先采用了全息技术进行曝光,然后利用光刻胶热熔技术在K9玻璃基底上制作出了面形良好的微柱透镜阵列。实验结果表明,进行全息曝光并显影后,能够在光刻胶表面产生良好的正弦阵列表面结构,之后采用光刻胶热熔技术可将光刻胶的正弦阵列结构转变为微柱透镜阵列,且实验结果良好。