TiAl基合金中的相变诱发位错网

作     者：梁伟 张绍远 赵兴国 李晋敏 

作者机构：太原理工大学材料科学与工程学院太原030024 

出 版 物：《电子显微学报》 (Journal of Chinese Electron Microscopy Society)

年 卷 期：2001年第20卷第4期

页      面：340-341页

核心收录：

学科分类：08[工学] 080502[工学-材料学] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）] 

基　　金：山西省自然科学基金资助项目 

主　　题：TiAl基合金 相变 退火 位错网 组织形态分析 

摘      要：双相TiAl合金的层状组织在α+γ两相区退火时将发生组织退化[1,2],即y层片合并以及形成不连续的α2层片.不同变体的相邻y层片合并后,在局部区域内将残留位错网[3].另一方面, 从相图上看, 在α2+γ两相区内, 随温度升高, 与γ相平衡的α2相将有所增加.但层状组织的形成也可能在较高温度的α+γ两相区开始,在这种情况下,较多的α层片在α2+γ两相区中的低温区优先转变为α2层片,使层状组织中α2相的体积分数超过其平衡体积分数,当加热至α2+γ两相区中高温度区时,部分α2层片则可能发生分解.为进一步理解TiAl基合金层状组织的稳定性及转变规律,本文对经1050℃(处于α2+γ两相区)退火TiAl层状组织中不连续α2层片前端γ相中的位错网进行分析.