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两类带选择激发脉冲激发轮廓的模拟比较

SLMULATED COMPARISON FOR TWO KINDS OF BAND SELECTIVE PULSES

作     者:庞玉玺 刘爱琢 裴奉奎 

作者机构:中国科学院长春应用化学研究所应用谱学开放实验室 

出 版 物:《波谱学杂志》 (Chinese Journal of Magnetic Resonance)

年 卷 期:1994年第11卷第4期

页      面:337-343页

核心收录:

学科分类:0809[工学-电子科学与技术(可授工学、理学学位)] 07[理学] 070205[理学-凝聚态物理] 08[工学] 0805[工学-材料科学与工程(可授工学、理学学位)] 080502[工学-材料学] 0702[理学-物理学] 

基  金:国家自然科学基金 

主  题:BURP脉冲 高斯串脉冲 计算机模拟 激发脉冲 

摘      要:本文用Bloch方程模拟了BURP族脉冲 ̄[1-3]和高斯串族脉冲 ̄[4,5](Gaussianpulsecastales)的激发轮廓,系统地比较了这两类脉冲的选择性及其对射频场非均匀性的依赖性,给出了选择性最佳的脉冲。

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