磁控溅射制备镍薄膜热阻温度传感器工艺研究
Technological study on Ni thin film thermistor as temperature sensor during magnetron sputtering作者机构：东北大学机械工程自动化学院辽宁沈阳110004
出 版 物：《真空》 (Vacuum)
年 卷 期：2006年第43卷第6期
页 面：1-4页
学科分类：08[工学] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）]
摘 要：利用镍薄膜的温度电阻特性以及磁控溅射镀膜技术设计并制备了薄膜热阻型温度传感器，为了达到较好的工作稳定性，设计了多层的复合膜系。文中分析了沉积薄膜的工作压力、电源功率、靶基距、退火温度、退火时间等制备工艺参数对热阻薄膜特性的影响，以及工艺参数对所沉积的镍薄膜的膜厚均匀度和温度电阻曲线，温度电阻系数等传感特性的影响。通过调整实验的工艺参数，最终得到电阻温度性能较好的镍薄膜温度传感器。测试结果表明薄膜传感器在0-250℃之间温度电阻曲线有较好的线性度和稳定性。
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