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缓冲化学腐蚀对高纯铌材剩余电阻率的影响

Effects of Buffered Chemical Etch on Residual Resistivity Ratio of High Purity Niobium

作     者:张良玉 游雨松 陈明伦 ZHANG Liang-yu;YOU Yu-song;CHEN Ming-lun

作者机构:宁夏东方钽业股份有限公司宁夏石嘴山753000 

出 版 物:《有色金属加工》 (Nonferrous Metals Processing)

年 卷 期:2014年第43卷第4期

页      面:10-12页

学科分类:08[工学] 080502[工学-材料学] 0805[工学-材料科学与工程(可授工学、理学学位)] 

基  金:科技型中小企业 技术创新基金项目(12C26216407259) 

主  题:高纯铌材 剩余电阻率 缓冲化学腐蚀 腐蚀温度 

摘      要:文章主要研究了缓冲化学腐蚀对高纯铌材剩余电阻率的影响,在使用氢氟酸(40%)∶硝酸(65%)∶磷酸(85%)的混合酸体积比为1∶1∶2的情况下,随着腐蚀温度升高,剩余电阻率会降低;腐蚀时间长导致酸液温度升高,也会使高纯铌样品的剩余电阻率降低。选择合适的工艺参数,对正确判断铌材性能和适当处理铌材具有重要意义。

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