氧离子辐照辅助沉积锆膜的组成特征
Composition characterization of oxygen ion assisted deposition of zirconium films作者机构：四川大学原子核科学技术研究所
出 版 物：《核技术》 (Nuclear Techniques)
年 卷 期：1995年第18卷第4期
页 面：212-215页
核心收录：
学科分类：080903[工学-微电子学与固体电子学] 0809[工学-电子科学与技术（可授工学、理学学位）] 08[工学] 0807[工学-动力工程及工程热物理] 080501[工学-材料物理与化学] 0827[工学-核科学与技术] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）] 080502[工学-材料学] 0703[理学-化学] 1009[医学-特种医学] 0702[理学-物理学] 0801[工学-力学（可授工学、理学学位）]
基 金：国家自然科学基金
摘 要：采用双离子束技术制备Ｚｒ—Ｏ薄膜，由氩离子溅射沉积锆的同时进行氧离子辐照，对形成的Ｚｒ－Ｏ薄膜进行了ＲＢＳ及ＸＰＳ分析．结果表明，形成膜均由三部分组成：表面的碳沾污层，Ｚｒ－Ｏ体部分及膜与基体的界面过渡层．改变氧离子束流密度，膜体部分的Ｏ／Ｚｒ原子比值由０升至２．３。碳沾污层及过渡层的厚度并不随氧离子束流的增加而变化。不同Ｏ／Ｚｒ比值膜的锆氧化物通过Ｚｒ的化学位移测量进行了鉴定。
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