直流射频耦合制备微纳结构AZO薄膜及其性能研究

作     者：姚婷婷 仲召进 李刚 汤永康 杨勇 金克武 沈洪雪 王天齐 彭塞奥 金良茂 沈鸿烈 甘治平 马立云 YAO Ting-ting;ZHONG Zhao-jin;LI Gang;TANG Yong-kang;YANG Yong;JIN Ke-wu;SHENG Hong-xue;WANG Tian-qi;PENG Saiao;JIN Liang-mao;SHEN Hong-lie;GAN Zhi-ping;MA Li-yun

作者机构：中建材蚌埠玻璃工业设计研究院有限公司浮法玻璃新技术国家重点实验室安徽蚌埠233000 大连交通大学辽宁大连116028 江苏省能量转换材料与技术重点实验室江苏南京211106 

出 版 物：《真空》 (Vacuum)

年 卷 期：2018年第55卷第6期

页      面：64-67页

学科分类：08[工学] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）] 

基　　金：安徽省重点研究与开发计划项目(1704a0902010,1704a0902014) 安徽省科技重大专项(17030901085) 江苏省能量转换材料与技术重点实验室资助 

主　　题：AZO薄膜 表面形貌 微纳结构 靶电压 电学性能 雾度 

摘      要：采用直流射频耦合磁控溅射法结合线棒刮涂法在玻璃衬底上室温生长微纳结构铝掺杂氧化锌(AZO)薄膜,底层AZO薄膜射频功率占比从50%调整到90%。通过扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射仪(XRD)、霍尔效应测试系统、紫外可见分光光度计、光电雾度仪重点研究了AZO薄膜的表面形貌、晶体结构、电学性能和光学性能。研究结果表明,提高底层AZO薄膜射频功率占比对微纳结构AZO薄膜光电性能有显著的影响,底层AZO薄膜射频功率占比80%时薄膜表现最低电阻率5.32×10^(-4)Ω·cm,可见光波段平均光学雾度36.3%。随着底层AZO薄膜射频功率占比的增加,薄膜表面形貌、生长形态和结晶性能发生较大变化,并得到具有陷光作用且光电性能优良的微纳结构AZO薄膜。