三元层状氮化物Ti_4AlN_3材料的合成及微观结构研究
Research on the Synthesis and Microstructure of Layered-ternary Nitride Ti_4AlN_3作者机构:武汉理工大学材料复合新技术国家重点实验室武汉430070
出 版 物:《硅酸盐通报》 (Bulletin of the Chinese Ceramic Society)
年 卷 期:2010年第29卷第1期
页 面:21-25页
核心收录:
学科分类:08[工学] 0805[工学-材料科学与工程(可授工学、理学学位)] 080502[工学-材料学]
摘 要:以Ti、Al、TiN粉为原料,采用热压烧结工艺在1400℃合成了含少量TiN和Al3Ti的Ti4AlN3块体材料,分别研究了不同原料配比、烧结温度及合成时间下烧结试样的相组成。混合粉Ti/1.2Al/3TiN在1400℃下保温2h所得烧结试样经背散射电子像结合EDS能谱分析,证实成功合成了Ti4AlN3材料。烧结试样晶粒尺寸为5~10μm,晶体呈层状或板状结构,结晶良好,结构致密。相对密度达到99.3%,维氏硬度及电导率分别为3.9~5.1GPa和1.2×106Ω-1.m-1,表明其具有优良的机械加工及导电性能。