基于统计模型的书法创作模拟
Statistic Model-Based Simulation on Calligraphy Creation作者机构：华东师范大学软件学院上海200062 浙江大学人工智能研究所杭州310027
出 版 物：《计算机学报》 (Chinese Journal of Computers)
年 卷 期：2008年第31卷第7期
页 面：1276-1282页
核心收录：
学科分类：081203[工学-计算机应用技术] 08[工学] 0835[工学-软件工程] 0812[工学-计算机科学与技术（可授工学、理学学位）]
基 金：上海市优秀学科带头人计划(07XD14203) 上海重点学科建设项目(B412) 上海市科委基础研究重点项目(06JC14058) 国家“九七三”重点基础研究发展规划项目(2005CB321904)资助
摘 要：人们对抽象思维与形象思维的认识极不平衡,对形象思维过程的研究尚属阙如.书法创作是典型的形象思维过程.文中给出基于带参数的统计模型(X=M(b))的书法笔划变形方法,通过调节参数可生成新风格的笔划.其过程包括从笔划轮廓获得训练点集、利用广义Procrustes分析法对齐、由主成分分析法得到特征等,并以隶书中典型的一划为例,讨论模拟创作结果.要实现人工智能,形象思维的模拟、模式和模型是逐步要考虑的问题.目前的工作只是第一步.
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