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显影工艺及显影喷嘴的应用

作     者:郭聪 张怀东 

作者机构:沈阳芯源微电子设备有限公司辽宁沈阳110168 

出 版 物:《中国高新科技》 (ZHONG GUO GAO XIN KE JI)

年 卷 期:2018年第20期

页      面:21-23页

学科分类:080903[工学-微电子学与固体电子学] 0809[工学-电子科学与技术(可授工学、理学学位)] 08[工学] 080501[工学-材料物理与化学] 0805[工学-材料科学与工程(可授工学、理学学位)] 080502[工学-材料学] 

主  题:光刻工艺 显影工艺 显影喷嘴 喷洒方式 

摘      要:集成电路(IntegratedCircuit,IC)的发明与应用是人类科技发展的重要进程之一。随着半导体科技的进步、工艺的提高,对半导体设备的要求也随之提高。作为IC应用大国,我国正以前所未有的力度发展IC产业,为有自己的中国芯而大力发展国产半导体设备替代国外设备,而关键工艺中的关键技术更是需要通过沉淀积累来厚积薄发。文章对显影工艺及显影喷嘴的应用进行介绍。

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